第512章 缺陷调控 (第1/2页)
　　
　　低温成相跑满72小时，屏幕右下角倒计时归零，温度曲线、力值曲线、气体流量三条线全在绿区，李天在记录本上写下成相通过四个字，在旁边签了名。
　　
　　苏明哲把成相样品送进封存盒，领队老专家拿着数据页看了两遍。
　　
　　陈启站在中控室门口看完签字流程，转身走向隔壁会议室，第三步，缺陷调控。
　　
　　十分钟后，零阻实验室核心小组到齐，李天坐在长桌一端，陈启坐在他右手侧，苏明哲把前驱体图和成相数据放到白板旁，三位老专家坐在对面，中科院金属所团队带着样品清单列席。
　　
　　领队老专家先站起来，拿起黑笔，在白板左侧画出传统氧空位调控流程，氧分压，退火温度，缺陷浓度，电学响应，四个框一一连上。
　　
　　“超导体的缺陷调控，核心在氧空位浓度，我做了三十年，这条路线成熟，风险低，适合先保住300K目标。”
　　
　　苏明哲拿起另一支笔，在白板右侧画出应变场诱导自组织模型、前驱体均匀性、晶格应变、缺陷定向排列、超导通道增强五个概念，四个框从上往下排。
　　
　　“传统方案控制缺陷，把多余的缺陷修掉，新方案换一条路，让缺陷自己排队，排到对超导通道有利的位置”。
　　
　　陶安然把手里的资料翻到应变场页，指尖落在晶格条纹图上：“这个方案靠前驱体均匀性撑底，前面电镜数据能给它背书”。
　　
　　领队老专家站到白板中间，看着苏明哲画出的模型：“应变场均匀性谁来保证，局部应变一偏，缺陷排列就会跑”。
　　
　　苏明哲调出电镜图，两张晶格图叠在屏幕上。
　　
　　“前驱体晶格已经证明均匀性，成相数据也证明偏差被控制住，新方案可以把已有优势用起来”。
　　
　　老专家翻到成相数据页：“理论上说得通，可传统方案更保险”。
　　
　　苏明哲把笔放下：“最优方案回报更高，做零阻，本来就很难靠保险路线走到终点”。
　　
　　李天站起身，走到两块白板中间，左边是氧空位调控，右边是应变场诱导自组织，他看完左边，又看右边。
　　
　　“两个方案都做，老方案做对照组，新方案做主实验，看数据再决定”。
　　
　　他说完坐回去。
　　
　　
　　
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